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PVD(Physical Vapor Deposition),指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。
PVD抛光镀膜技术(物理气相沉积)是相对于CVD(化学气相沉积)来说的。它是一种蒸发真空镀膜技术,由蒸发、运输、反应、沉积四个物理反应完成材料镀膜的过程,可以说是一种替代电镀的过程。PVD抛光镀膜技术(物理气相沉积)承袭了化学气相沉积提高表面性能的优点,并克服了化学气相沉积高温易使材料变形等缺点。
凭借在装饰镀行业十多年的宝贵经验,为客户提供最适合的涂层加工方案。PVD镀膜的属性 金属外观 颜色均匀一致 耐久的表面,在各种基本的空气和直射阳光环境条件下永久保持良好外观。颜色深韵、光亮。经济,可减少清洗和擦亮电镀黄铜或金色所必须的时间和成本。
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